Incorporación de metal en capas de carbono amorfo hidrogenado mediante deposición química en fase vapor asistida por plasma de resonancia ciclotrónica de electrones = Metal incorporation in hydrogenated amorphus carbon films deposited by biased electron cyclotron resonance chemical vapour deposition
Author
Pardo Pérez, AinhoaEntity
Universidad Autónoma de Madrid. Departamento de Física Aplicada; CSIC. Instituto de Ciencia de Materiales de Madrid (ICMM)Date
2012Subjects
Nanotecnología - Tesis doctorales; Nanostructuras - Tesis doctoralesNote
Tesis doctoral inédita de la Universidad Autónoma de Madrid. Facultad de Ciencias, Departamento de Física Aplicada. Fecha de lectura: 21-06-2012Files in this item
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